A utilização de feixe de íons para a formação, modificação e caracterização e materiais teve um grande avanço na década dos anos 80 e tem cada vez ampliado seus horizontes no desenvolvimento científico e tecnológico. Hoje em dia, praticamente, 100% de todos os circuito integrados (CIs) são produzidos com implante de íons. As aplicações vão desde a dopagem controlada para a produção dos CIs, a formação das camadas de cor nos monitores planos para computador, controle de propriedades de polímeros até o uso de aceleradores de íons para radioterapia e motores iônicos para posicionamento de satélites em órbita. No IFUSP temos equipamentos que permitem a caracterização de materiais por feixe de íons como o acelerador do LAMFI (Laboratório de Análise de Materiais por Feixe de Íons) ,,que tem capacidade de análise por RBS, PIXE e FRS e, o acelerador Pelletron, que é usado para a realização de medidas de ERDA, até os equipamentos de formação e modificação de materiais por deposição assistida por feixes de íons (IBAD) instalados no LACIFID (Laboratório de Cristais Iônicos, Filmes Finos e Datação) de Departamento de Física Nuclear. Neste curso apresentaremos o estado da arte das técnicas e métodos do uso de feixe de íons para a formação, modificação e caracterização de materiais e os estudos e pesquisas em desenvolvimento no IFUSP.